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上海雋思實驗儀器有限公司 主營產品:HMDS真空烘箱,無塵烤箱,無氧烤箱,潔凈烘箱,充氮烤箱,隧道烘箱

當前位置:阿儀網>上海雋思實驗儀器有限公司>技術文章>HMDS真空烘箱,HMDS處理系統的藥液泄漏處理方法

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技術文章

HMDS真空烘箱,HMDS處理系統的藥液泄漏處理方法

點擊次數:758 發布時間:2017/6/19 8:33:09

                            HMDS真空烘箱,HMDS處理系統中HMDS泄漏處理方法

1.在污染區尚未完全清理干凈前,限制人員接近該區。

2.確定清理工作是由受過訓練的人員負責。

3.穿戴適當的個人防護裝備。

4.對該區域進行通風換氣。

環境注意事項:抽氣通風,移走撤離關閉所有可能之熱源、火星、火花與火焰等之引火源與點火裝置,若大量泄漏時先將泄漏區圍堵避免擴散。

HMDS清理方法:

少量泄漏時:以惰性吸收/吸附材料吸取泄漏物。

大量泄漏時:將泄漏區域圍堵,小心地道引將泄漏物抽取回收集桶。

雋思HMDS真空烘箱,HMDS處理系統主要用途:

   在半導體生產工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節,涂膠質量直接影響到光刻的質量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導致光刻圖形轉移的失敗,同時濕法腐蝕容易發生側向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后,經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著偶聯劑的作用。

HMDS真空烘箱,HMDS處理系統技術參數:

電源電壓:AC 220V±10%/50Hz±2%

輸入功率:2200W

溫度范圍:RT+10℃-250℃

溫度分辨率:0.1℃

溫度波動度:±1℃

達到真空度:133Pa(1torr)

工作室尺寸(mm):450*450*450,550*550*350(可定做)

雋思HMDS真空烘箱,上海雋思HMDS處理系統特點:

1、預處理性能更好

2、處理更加均勻

3、效率高

4、更加節省藥液

5、更加環保和安全

6、高安全保護性能

a. 低液報警裝置

b.可自動吸取HMDS功能,

c.可自動添加HMDS功能,

d.HMDS藥液泄漏報警功能,

HMDS安全處置與儲存方法:

處置:HMDS易產生靜電,搬運時將所有設備與容器適當接地,并須固定牢固,避免吸入蒸氣及接觸眼睛與皮膚。

存儲:置于陰涼、干燥、通風處、緊蓋容器,遠離各種可能之熱源、火星、火花與火焰等之引火源與點火裝置,避免吸入蒸氣及接觸眼睛與皮膚。

原創作者:上海雋思實驗儀器有限公司

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